确定
收藏
评分:
分享:
化学气相沉积法生长石墨烯纳米带
前沿新材料
得分
下载 18
收藏 0
评论 0
编号 AM00000567
交易方式 面谈
地区: 美国
领域: 前沿新材料
作    者 日    期
申  请  人 分    类 专利
专利状态 已授予 授权号 US 2009/0226361 A1
技术成熟度 详细设计 依存度 独立应用
光闸晶体
(1)成功大量合成新型纳米碳; (2)周围环境压力下进行化学气相沉积。
现在纳米带大量制备面临了两个障碍:分别是生长纳米碳和处理纳米带的困难
English
免费 0.0米
中文
我要看中文
用户评论
登录并保存
还可以输入 200
提交后客服人员将在24小时内与您联系!
请简单描述需求内容:
提交

在 线
咨 询

400-998-6500
阿基米德先进技术网 VIT